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  • 濺射設(shè)備：CS-200z CS-200z
    在真空條件下，氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子，高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開靶材，沉積在基板表面，形成薄膜。成膜種…
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  • 濺射設(shè)備：SME-200 SME-200
    全自動多工藝對應(yīng)用最大搭載7個工藝腔的濺射設(shè)備，可實現(xiàn)多種類材料濺射，諸如高溫成膜（PZT等）、高精度側(cè)壁成膜、光學(xué)膜、化合物膜、合金膜等…
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  • 濺射設(shè)備：ULDIS系列 ULDIS系列
    1.對于光學(xué)薄膜的濺射裝置烏爾迪斯布系列，間模式?在數(shù)字濺射裝置進化技術(shù)，實現(xiàn)了光學(xué)薄膜的一個更高的質(zhì)量。 2.與美國JDS Uniphase達成新的許可協(xié)…
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  • 濺射設(shè)備：SIV-500 SIV-500
    用于particle抑制的通過型豎直濺射，可實現(xiàn)基板往復(fù)或line式搬送，多用于SiO、SiN等光學(xué)薄膜濺射，亦可用于金屬濺射。
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