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蒸發(fā)設(shè)備濺射設(shè)備刻蝕設(shè)備 PECVD

PECVD：CC-200Cz

在真空條件下，通過(guò)射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
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PECVD：CX-500z

在真空條件下，通過(guò)射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
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總數(shù)：2
1
1/1

設(shè)備

按類型分類
 ·功率器件（Si） ·化合物半導(dǎo)體 ·MEMS傳感器 ·光通信 ·LED/OLED ·SAW/BAW ·其他電子（光學(xué)、醫(yī)療）
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