性夜影院爽黄A爽AV,99久久精品国产综合,久久天堂AV综合色无码专区,琪琪SEE色原网色原网站18

  • 濺射設(shè)備：CS-200z CS-200z
    在真空條件下，氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子，高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開靶材，沉積在基板表面，形成薄膜。成膜種…
    了解詳情
  • 濺射設(shè)備：SME-200 SME-200
    全自動(dòng)多工藝對(duì)應(yīng)用最大搭載7個(gè)工藝腔的濺射設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)多種類材料濺射，諸如高溫成膜（PZT等）、高精度側(cè)壁成膜、光學(xué)膜、化合物膜、合金膜等…
    了解詳情
  • 濺射設(shè)備：ULDIS系列 ULDIS系列
    1.對(duì)于光學(xué)薄膜的濺射裝置烏爾迪斯布系列，間模式?在數(shù)字濺射裝置進(jìn)化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了光學(xué)薄膜的一個(gè)更高的質(zhì)量。 2.與美國(guó)JDS Uniphase達(dá)成新的許可協(xié)…
    了解詳情
  • 刻蝕設(shè)備：INE-3085 INE-3085
    面向LED、Powerdevice、MEMS等諸多領(lǐng)域開發(fā)，搭載靜電吸附系統(tǒng)，采用更大的靜電托盤，較常規(guī)設(shè)備擁有更高的刻蝕速率和更大的產(chǎn)能。同時(shí)搭載ULVAC專利的…
    了解詳情
  • 刻蝕設(shè)備：NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下，通過(guò)RF高頻放電，產(chǎn)生等離子體，在偏壓的作用下，通過(guò)物理和化學(xué)的作用，對(duì)特定的材料去除。蝕刻材料：金屬，GaN，In P，SiO2，Si …
    了解詳情
  • 刻蝕設(shè)備：NE-5700 NE-5700
    量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700是可以對(duì)應(yīng)單腔及多腔、重視性價(jià)比擁有擴(kuò)展性的刻蝕設(shè)備，注重性價(jià)比。
    了解詳情
  • 刻蝕設(shè)備：NLD-570 NLD-570
    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛(ài)發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度…
    了解詳情
  • 刻蝕設(shè)備：NLD-5700 NLD-5700
    對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛(ài)發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的NLD技術(shù)…
    了解詳情
  • PECVD：CC-200Cz CC-200Cz
    在真空條件下，通過(guò)射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
    了解詳情
  • PECVD：CX-500z CX-500z
    在真空條件下，通過(guò)射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
    了解詳情
  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-5z 蒸發(fā)Ei系列 ei-5z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對(duì)應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動(dòng)…
    了解詳情
  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-7z 蒸發(fā)Ei系列 ei-7z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對(duì)應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備。可通過(guò)操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動(dòng)…
    了解詳情
  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對(duì)應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備。可通過(guò)操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動(dòng)…
    了解詳情
  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2 蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2
    Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對(duì)應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動(dòng)化…
    了解詳情
CopyRight 2020-2024 Inc. 愛(ài)發(fā)科真空技術(shù)（蘇州）有限公司   蘇ICP備案號(hào)12004487號(hào)-1　網(wǎng)站地圖