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  • 濺射設備：CS-200z CS-200z
    在真空條件下，氬氣在DC或RF作用下產生氬離子，高能的氬離子撞擊靶材 產生濺射。濺射出的原子或分子離開靶材，沉積在基板表面，形成薄膜。成膜種…
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  • 刻蝕設備：NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下，通過RF高頻放電，產生等離子體，在偏壓的作用下，通過物理和化學的作用，對特定的材料去除。蝕刻材料：金屬，GaN，In P，SiO2，Si …
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  • 刻蝕設備：NLD-570 NLD-570
    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科獨創(chuàng)的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現(xiàn)產生低壓、低電子溫度…
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  • 刻蝕設備：NLD-5700 NLD-5700
    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨創(chuàng)的NLD技術…
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  • 蒸發(fā)設備：蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備?？赏ㄟ^操作面板進行集中控制，實現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動…
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