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  • 濺射設(shè)備：CS-200z CS-200z
    在真空條件下，氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子，高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開靶材，沉積在基板表面，形成薄膜。成膜種…
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  • 刻蝕設(shè)備：NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下，通過RF高頻放電，產(chǎn)生等離子體，在偏壓的作用下，通過物理和化學(xué)的作用，對特定的材料去除。蝕刻材料：金屬，GaN，In P，SiO2，Si …
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  • 刻蝕設(shè)備：NLD-570 NLD-570
    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度…
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  • 刻蝕設(shè)備：NLD-5700 NLD-5700
    對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的NLD技術(shù)…
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  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動…
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