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濺射設(shè)備：SME-200

全自動(dòng)多工藝對(duì)應(yīng)用最大搭載7個(gè)工藝腔的濺射設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)多種類材料濺射，諸如高溫成膜（PZT等）、高精度側(cè)壁成膜、光學(xué)膜、化合物膜、合金膜等…
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刻蝕設(shè)備：INE-3085

面向LED、Powerdevice、MEMS等諸多領(lǐng)域開發(fā)，搭載靜電吸附系統(tǒng)，采用更大的靜電托盤，較常規(guī)設(shè)備擁有更高的刻蝕速率和更大的產(chǎn)能。同時(shí)搭載ULVAC專利的…
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PECVD：CX-500z

在真空條件下，通過射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
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