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  • 濺射設(shè)備：CS-200z CS-200z
    在真空條件下，氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子，高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開靶材，沉積在基板表面，形成薄膜。成膜種…
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  • 濺射設(shè)備：SME-200 SME-200
    全自動多工藝對應(yīng)用最大搭載7個工藝腔的濺射設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)多種類材料濺射，諸如高溫成膜（PZT等）、高精度側(cè)壁成膜、光學(xué)膜、化合物膜、合金膜等…
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  • 刻蝕設(shè)備：NLD-5700 NLD-5700
    對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的NLD技術(shù)…
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  • PECVD：CC-200Cz CC-200Cz
    在真空條件下，通過射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
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  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動…
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