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  • 濺射設(shè)備：CS-200z CS-200z
    在真空條件下，氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子，高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開靶材，沉積在基板表面，形成薄膜。成膜種…
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  • 濺射設(shè)備：ULDIS系列 ULDIS系列
    1.對于光學(xué)薄膜的濺射裝置烏爾迪斯布系列，間模式?在數(shù)字濺射裝置進(jìn)化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了光學(xué)薄膜的一個(gè)更高的質(zhì)量。 2.與美國JDS Uniphase達(dá)成新的許可協(xié)…
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  • 刻蝕設(shè)備：NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下，通過RF高頻放電，產(chǎn)生等離子體，在偏壓的作用下，通過物理和化學(xué)的作用，對特定的材料去除。蝕刻材料：金屬，GaN，In P，SiO2，Si …
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  • 刻蝕設(shè)備：NLD-5700 NLD-5700
    對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨(dú)創(chuàng)的NLD技術(shù)…
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  • PECVD：CC-200Cz CC-200Cz
    在真空條件下，通過射頻放電，讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類：SiO2，SiNx ，SiON。等離子增強(qiáng)型，膜質(zhì)好，均勻性高，L…
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  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-5z 蒸發(fā)Ei系列 ei-5z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動…
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  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-7z 蒸發(fā)Ei系列 ei-7z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備。可通過操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動…
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  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動…
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  • 蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2 蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2
    Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板進(jìn)行集中控制，實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動化…
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