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蒸發(fā)設(shè)備：蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2

Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^操作面板進行集中控制，實現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動化操作，適用于研究開發(fā)及少量生產(chǎn) 2.蒸發(fā)材料：金屬，ITO，二氧化硅等材料

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13913550251（沈先生）

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產(chǎn)品特性 / Product characteristics

? 金屬，合金，非金屬，化合物等材料的高品質(zhì)蒸發(fā)鍍膜 ? 鍍膜精度高，可達(dá)10E-10m ? 蒸發(fā)鍍膜的純度高，附著力強 ? 鍍膜的均勻性好，重復(fù)性優(yōu)異 ? 配置離子源進行表面處理 ? 配置熱阻蒸發(fā)，省材料 ? 上位通信，材料掃描功能 ? C2～12inch，不定型片，方片蒸發(fā)

產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

? 功率器件 ? LED ? 光通信/傳感器 ? LD ? 高校及研究所等