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刻蝕設備：NLD-570

研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科獨創(chuàng)的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

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0512-86669111-8150 李女士
13913550251（沈先生）



產(chǎn)品特性 / Product characteristics



? NLD用于與ICP方式相比更低壓、高密度、更低電子溫度等離子體的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工

? 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不純物的多種玻璃加工，在形狀或表面平滑性方面有優(yōu)異的刻蝕性能

? 石英及玻璃作為厚膜resist mask時的也可實現(xiàn)深度刻蝕（100μ m以上）

? 可實現(xiàn)高速刻蝕（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）

? 可追加cassette室



產(chǎn)品應用 / Product application



? 光學器件（光衍射格子、変調(diào)器、光開關等等）

? 凹凸型微透鏡

? 流體路徑作成或光子學結晶


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