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刻蝕設(shè)備：NE-550EXz

在高真空條件下，通過RF高頻放電，產(chǎn)生等離子體，在偏壓的作用下，通過物理和化學(xué)的作用，對(duì)特定的材料去除。蝕刻材料：金屬，GaN，In P，SiO2，Si ，Polymide 等材料。Load –lock 式，全自動(dòng)控制，專利ISM電極,均勻性高，安定性好，構(gòu)造簡(jiǎn)單，維護(hù)簡(jiǎn)便。

具體購(gòu)買政策請(qǐng)致電：
0512-86669111-8150 李女士
13913550251（沈先生）

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• 產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品特性 / Product characteristics

? 蝕刻均勻性，穩(wěn)定性優(yōu)異 ? Load –lock式，全自動(dòng)控制 ? 應(yīng)用廣泛SiO2，SiN，金屬，化合物等 ? 構(gòu)造簡(jiǎn)單，維護(hù)簡(jiǎn)便 ? 2,4,6,8inch基板兼容,切換便利

產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

? 功率器件，LED，光通信/傳感器，高校及研究所等。