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刻蝕設(shè)備：NLD-5700

對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨創(chuàng)的NLD技術(shù)設(shè)備可實現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

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0512-86669111-8150 李女士
13913550251（沈先生）

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• 產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品特性 / Product characteristics

? 在潔凈房內(nèi)作業(yè)可擴張為雙腔。（可選配腔室：NLD、有磁場ICP、CCP或者去膠室） ? NLD為時間空間可控的等離子，因此設(shè)備干法清潔容易 ? 腔體維護簡便 ? 從掩?？涛g到石英、玻璃刻蝕，可提供各類工藝解決方案 ? 專門的半導(dǎo)體技術(shù)研究所會提供萬全的工藝支持體制

產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

? 光學(xué)器件（光衍射格子、変調(diào)器、光開關(guān)等等） ? 凹凸型微透鏡 ? 流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶